卓上型窒素リフロー装置 
THR-1000 / 2000シリース
小型・高性能卓上窒素リフロー
J−MAX卓上窒素リフローはオリジナルヒーターの開発・搭載により、CSP/SOP
QFP/BGAなど様々な部品への対応を実現しました。窒素雰囲気中での作業なので
部品へのダメージも少なく又、酸化防止もできるので品質向上にもつながります。
THR−2000 THR−1000
THR−2000 THR−1000
特徴(THR2000)
上下独立チャンバーの稼動により表面と
裏面の加熱温度を独自で管理できます。
加圧されたホット窒素ガスにより、無酸化
状態での半田付けが行なえます。
加圧されているので、ワーク表面温度の
均一化が得られます。
特徴(THR1000)
専用ノズルの交換により様々なチップ
部品への対応が可能です。
加圧された窒素ガスにより偏析の無い
ハンダ付けが実現しました。
仕様(THR-2000)
寸法 W520×D450×H1100
重量 120 Kg
電源 AC100V   (50/60Hz)
ヒーター容量 555W×7本(スーパーヒーター)
対応基板寸法 250×190×t2.0
制御温度 0〜600℃ (max)
供給空気圧 0.4〜0.5MPa
遠赤ヒーター 1200W (OP)
THR−1000
寸法 W400×D500×H400
重量 20kg
電源 AC100V   (50/60Hz)
ヒーター容量 遠赤ヒーター 800W
スーパーヒーター 555W
対応基板寸法 450×350
制御温度 遠赤ヒーター 350℃
スーパーヒーター 600℃
温度コントローラ UK-14000U
P.I.D制御方式
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